AMIOT BERGERONBusiness Directories,Company Directories

Company Name: Corporate Name:	AMIOT & BERGERON
Company Title:
Company Description:
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Company Address:	3 Cote Dinan,QUEBEC,QC,Canada
ZIP Code: Postal Code:	G1K3V5
Telephone Number:	4186924610
Fax Number:	4186925447
Website:
Email:
USA SIC Code(Standard Industrial Classification Code):	871202
USA SIC Description:	Architects
Number of Employees:	5 to 9
Sales Amount:	$1 to 2.5 million
Credit History: Credit Report:	Very Good
Contact Person:	Suzanne Bergeron
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Company Directories & Business Directories

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AMIS DU LANGELIER
AMIS DE LECOLE HOLLAND
AMIOT, LOUISE

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AMIOT LOUISE & BERGERON SUZANNE ARCHIT
AMICALE ALFA DE QUEBEC INC
AMICALE ALFA DE QUEBEC

Company News:

光刻胶g线、i线、KrF、ArF、EUV，到底是在说什么 - 知乎
半导体光刻胶根据曝光光源波长不同来分类，分别是紫外全谱 (300～450nm)、 G 线 (436nm)、 I 线 (365nm）、深紫外 (DUV，包括248nm和193nm)和极紫外 (EUV)，相对应于各曝光波长的光刻胶也由此而生。
既然波长越短芯片制程越先进，光刻机为什么不使用波长极短的伽马射线？ - 知乎
单从物理规律上来说，要做出更小的结构，简直方法太多了：使用电子束光刻（E-beam Lithography），由于电子的德布罗意波长很短，很容易可以做出制程甚至小于1 nm的芯片。
光刻机工作原理图及镜头、光源、分辨率、套刻精度相关技术参数-面包板社区
下表是各类光刻机光源的具体参数：最早光刻机的光源是采用汞灯产生的紫外光源 (UV:UltravioletLight)，从g-line一直发展到i-line，波长缩小到365nm，实际对应的分辨率大约在200nm以上。随后，业界采用了准分子激光的深紫外光源 (DUV:DeepUltravioletLight)。
光刻机光源的演变过程，从193nm到13. 5nm，光刻机激光波长的变化
AI大浪潮时代，芯片成为了不可或缺的东西，而制造芯片的EUV光刻机的核心部件光源，作为光刻技术中最难突破更新换代的部位，人类花了多久找到了极紫外光刻193nm到13 5nm这个正确的方向，中国光刻机之路又走到了哪里，一起来看看。
波长与分辨率、对比度和清晰度的关系 (光刻机光刻原理)_光学杂谈_正势利
根据瑞利判据，照射波长越小，对应晶圆上的艾里斑就越小，这样像的分辨率（分辨率通常以每毫米最多可分辨的线条数来表示（单位为lp mm:毫米每线对））和对比度就越高，即系统成像的清晰度提升了，这样一来，掩膜版的图形就可近似完美的刻在硅片上。
光刻工艺中g线、i线、DUV、EUV是什么意思？|光学|波长|掩模|euv_网易订阅
波长越短，能够成像的最小线宽就越小；同时，如果通过浸没式光刻工艺增大 NA，也可以进一步降低分辨极限。基于这一原理，产业界为了实现更细微的线宽，不断朝更短波长发展：从传统的 g线、i线过渡到 KrF、ArF，再到 EUV。
光刻机光源波长 - 科汇华晟 - maskalignercn. com
光刻机的光源波长在半导体制造中扮演着至关重要的角色，直接影响到分辨率、曝光时间、光刻胶适配性以及生产效率。随着制程节点的不断缩小，光源波长的技术挑战也愈加显著。
半导体工艺（四）光刻机（Mask Aligner_电子束光刻的波长是多少-CSDN博客
为了提高光刻分辨率，在采用准分子光源后进一步缩短曝光波长，引入波长为10～14nm的极紫外光作为曝光光源。目前波长为13 5nm。 EUV光刻机主要由光源、照明、物镜、工件台、掩模台、晶圆片对准、调焦调平、掩模传输、晶圆片传输、真空框架等分系统组成。
光刻机波长 - 百度文库
选择合适的光刻机波长可以提高光刻效果、实现更小尺寸的图案制造。目前，248nm和193nm波长是最常用的光刻机波长，而EUV技术、MPT技术和SAQP技术则代表了未来光刻技术的发展方向。
g线、i线、KrF、ArF、ArFi、EUV六代光刻机，中国处于什么水平？_nm_光源_波长
第一二代光刻机均为接触接近式光刻机，曝光方式为接触接近式，G线（G-line）光刻机，使用的是436nm波长的光源。而I线（I-line）使用的是365nm波长的光源，这两种光刻机，也叫做紫外光刻机。