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- 什么是光刻技术，为什么对芯片制造至关重要？ - 知乎
光刻是将掩模版上的图形转移到涂有光致抗蚀剂（或称光刻胶）的硅片上，通过一系列生产步骤将硅片表面薄膜的特定部分除去的一种图形转移技术。光刻技术是借用照相技术、平板印刷技术的基础上发展起来的半导体关键工艺技术。 通俗易懂的说，集成电路制造，是要在几平方厘米的面积上
- 光刻机是干什么用的? - 知乎
光刻机（Mask Aligner) ，又名掩模对准曝光机，是芯片制造流程中，光刻工艺的核心设备。芯片的制造流程极其复杂，但可以概括为几大步骤： 硅片的制备-->外延工艺-->热氧化-->扩散掺杂-->离子注入-->薄膜制备-->光刻-->刻蚀-->工艺集成等。 而光刻工艺是制造流程中最关键的一步，光刻确定了芯片的
- 中国的光刻机技术到底已经到达什么程度了？ - 知乎
剛剛才想到這篇一直沒寫，因為台灣這邊都習慣叫曝光機 (大陸叫光刻機)，我下面文章就用曝光機來稱呼 大陸的曝光機技術就注意長江存儲和長鑫存儲兩間公司的動態就好 為什麼要注意這兩間公司？ 1 NAND是現在除了機械式硬碟外，儲存裝置的基礎元件 NAND是最不需要追趕製程微縮的，相對DRAM他的
- 光刻机到底难在哪？ - 知乎
光刻机是什么呢？是制造芯片的机器。而芯片是整个手机的内脏。 那光刻机的原理是什么？冲洗照片。但不一样的的是，洗照片是把小的底片放大，但光刻机是把大的照片缩小，就是把电路图缩印到晶圆相纸上。 为什么原理上并不难的机器门槛如此之高呢？问题出在了精度上，量变产生质变。举个
- 中国的光刻机技术到底已经到达什么程度了？ - 知乎
其中，作为光刻机领域的绝对霸主，ASML公司在美的不断施压下，也选择了“同流合污”，除了EUV光刻机被封锁外，部分先进的DUV光刻机也被限制出口，能够供应给中国市场的光刻机，都不是啥“好货”。
- 如何评价从193nm ArF光源到13. 5nm EUV光源的进步，为何这次的波长改进对比前几代格外大？ - 知乎
如何评价从193nm ArF光源到13 5nm EUV光源的进步，为何这次的波长改进对比前几代格外大？
- 上海微电子能在2025年前攻克7nm光刻机吗？ - 知乎
一张嘴就是槽点。 根本不存在所谓的7nm光刻机，直接把光刻机说成是7nm、14nm、28nm都是有问题的。 光刻机应该是按照光源波长来划分: 用436nm光源的是g-line光刻机， 用365nm光源的是i-line光刻机，上海微电子的 SSX600扫描式光刻机就是这个类型， 用248nm光源的是KrF光刻机， 用193nm深紫外光光源的是DUV光刻
- 14nm光刻机是怎么做出7nm和5nm芯片的？ - 知乎
其实并没有14nm光刻机，现在分DUV和EUV，发一个删减版的简单说一下吧，完整版看我水印可以知道在哪里。 稍微关注一点这块的人，大概都知道现在的光刻机大体上分为DUV和EUV。DUV是目前比较成熟的方案，现阶段最高采用193nm波长的深紫外光源，被广泛应用在7nm（N7)以及7nm以前的工艺里。伴随着工艺
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